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Agilent 8900 串聯(lián)四極桿 ICP-MS (ICP-MS/MS) 是成功的串聯(lián)電感耦合等離子體質(zhì)譜儀。Agilent 8900 ICP-MS/MS 提供了一系列配置，適合從常規(guī)商業(yè)分析到研究和材料分析的應(yīng)用，其重新定義了 ICP-MS 性能，可提供可靠的分析結(jié)果。8900 系統(tǒng)具有與安捷倫市場(chǎng)單四極桿 ICP-MS 系統(tǒng)相同的基質(zhì)耐受性和穩(wěn)定性，并與**的氦 (He) 碰撞模式相結(jié)合。但 8900 系統(tǒng)增加了串聯(lián)質(zhì)譜操作 (ICP-MS/MS)，可對(duì)碰撞反應(yīng)池 (CRC) 中的反應(yīng)化學(xué)過(guò)程進(jìn)行控制，使其成為強(qiáng)大、靈活的多元素分析儀。利用 8900 ICP-MS/MS 控制干擾，讓您的結(jié)果可靠。
Agilent8900 ICP-MS電感耦合等離子體質(zhì)譜儀特性
MS/MS 控制反應(yīng)化學(xué)過(guò)程，可確保提供一致、可靠的結(jié)果，即使對(duì)于此前難以分析的元素（如 Si、P 和 S）也是如此
反應(yīng)化學(xué)過(guò)程可解決同量異位素重疊問(wèn)題，這超出了高分辨率 ICP-MS 的能力
四通道反應(yīng)池氣體控制可提供快速、靈活的多模式操作
一套預(yù)設(shè)方法簡(jiǎn)化了常規(guī)分析的方法設(shè)置
氦氣模式可簡(jiǎn)單、控制常見(jiàn)的多原子干擾
穩(wěn)定的（低 CeO/Ce）等離子體，可提供**的基質(zhì)耐受性
高基質(zhì)進(jìn)樣 (UHMI) 技術(shù)可耐受總?cè)芙夤腆w量 (TDS) 樣品
高靈敏度和低背景為痕量分析物提供了低的檢測(cè)限
通用性和高性能相結(jié)合，支持研究和要求的應(yīng)用
靈活的操作模式（母離子/產(chǎn)物離子掃描）支持對(duì)反應(yīng)化學(xué)模式進(jìn)行研究
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